拋光機操作的關(guān)鍵是要設法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì )影響最終觀(guān)察到的組織，即不會(huì )造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用最細的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。

　　解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應當盡可能小；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應使試樣自轉并沿轉盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì )減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì )使試樣升溫，潤滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會(huì )拋傷表面。為了達到粗拋的目的，要求轉盤(pán)轉速較低，最好不要超過(guò)600r/min；拋光時(shí)間應當比去掉劃痕所需的時(shí)間長(cháng)些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀(guān)察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。

　　精拋時(shí)轉盤(pán)速度可適當提高，拋光時(shí)間以?huà)伒舸謷伒膿p傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結構，已逐步引起有關(guān)專(zhuān)家的重視。國內外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設備，正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機。